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文獻獎勵丨西安工程大學 環境與化學工程學院:劉甜、朱煒等人憑借使用我們MC鎂瑞臣的產品,發表了最新光催化研究成果!

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發表期刊:Advanced Science

文章題目:Preparation of Structure Vacancy Defect Modified Diatomic-Layered g-C3N4 Nanosheet with Enhanced Photocatalytic Performance

第一作者劉甜、朱煒

訊作者李云鋒

發表單位:西安工程大學 環境與化學工程學院

實驗方向:光催化

影響因子:17.521

 
01
本文要點

無需其他物種輔助的石墨相氮化碳(g-C3N4)結構自修飾引起了廣泛關注。本研究通過在真空石英管中對塊體g-C3N4進行熱處理,合成了結構空位缺陷修飾的雙原子層g-C3N4納米片(VCN)。這種真空-熱雙重驅動力的條件促進了g-C3N4的剝離和結構空位的形成。所制備的VCN具有較大的比表面積和豐富的孔結構,為催化反應提供了更多的活性中心。此外,VCN樣品中形成的特殊缺陷能級在光激發階段能產生更高的激子密度。同時,由于超薄結構(≈1.5nm,對應兩個石墨相氮化碳原子層)大大縮短了電荷轉移路徑,光生電荷能迅速轉移到VCN表面。此外,缺陷能級緩解了納米級g-C3N4量子尺寸效應導致的帶隙增大問題,實現了良好的可見光利用。因此,VCN樣品在制氫和典型抗生素(如環丙沙星和鹽酸四環素)的光降解方面表現出優異的光催化性能。

 
02
前言

光催化技術因其在解決環境和能源問題方面的潛力而備受關注。光催化劑能將太陽能轉化為化學能,應用于污染物降解、制氫、二氧化碳還原和氮固定等領域。然而,設計可持續且高效的可見光光催化劑仍然是最具挑戰性的任務。石墨相氮化碳(g-C3N4)因其合適的帶結構、簡單的制備方法和優異的結構穩定性而受到廣泛關注。然而,g-C3N4的固有缺陷,如比表面積小、可見光吸收效率低和電荷復合快,極大地限制了其光催化性能。

論文第一作者為:劉甜、朱煒

論文通訊作者為:李云鋒

 
03

本文使用設備

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04
結果與討論

結構與性質分析:通過XRD、FT-IR、固態13C NMR和1H NMR光譜、XPS和EPR光譜等手段表征了所制備的VCN樣品,證明了其分子結構中存在空位缺陷。N2吸附-脫附測試表明,VCN具有較大的比表面積(59.8 m²/g)和豐富的孔結構。SEM和TEM圖像顯示,VCN呈現出超薄的納米片結構,厚度約為1.5nm。

 

光催化活性:在制氫實驗中,VCN表現出最高的H2析出速率(5.12 mmol h?¹ g?¹),分別是GCN和NCN的7.64倍和2.64倍。

在抗生素降解實驗中,VCN在30分鐘內對環丙沙星的降解率達到85%,降解速率常數是GCN的13.6倍。

 

光催化機制:通過穩態和瞬態光致發光光譜、光電流響應、線性掃描伏安法、電化學阻抗譜等手段研究了VCN的光生電荷傳輸行為。

計算表明,VCN的缺陷能級和超薄結構有利于光生激子的形成和電荷分離,從而提高了光催化性能。

 
05
全文小結

本研究成功制備了具有高效光催化性能的結構空位缺陷修飾的超薄g-C3N4納米片(VCN)。VCN的空位缺陷和超薄結構在光激發階段能產生更高的激子密度,并且光生電荷能迅速轉移到VCN表面。此外,缺陷能級還緩解了納米級g-C3N4量子尺寸效應導致的帶隙增大問題。因此,VCN在制氫和抗生素光降解方面表現出優異的光催化性能。

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 北京鎂瑞臣科技有限公司(簡稱MC鎂瑞臣)創立于2018年3月,總部位于北京市海淀區百旺弘祥科技產業園,公司集科研儀器研發制造、銷售、服務于一體,以光催化行業為經營主線,致力于環境清潔、新能源、新材料、碳中和縱向深入發展和橫向拓展并行的高科技企業。具有中關村高新技術企業認證和國家高新技術企業資質,企業信用評級AAA級企業認證,ISO9001質量管理體系質量認證及多項實用新型和發明專利。   

 公司在光催化實驗設備技術研發方面不斷攻克技術難題,為光催化降解污染物、光解水制氫制氧或全解水、光催化二氧化碳還原、光催化合成氨(固氮)、光催化降解VOC、甲醛等實驗提供運行更穩定、操作更便捷的實驗設備整體解決方案。目前業務遍及全國,為淮北師范大學、清華大學、北京化工大學、北京大學、天津大學、上海交通大學、華東理工大學、武漢大學、西安交通大學、南京工業大學、南京林業大學、東北師范大學、福州大學、中科院物理研究所等科研機構提供了周到滿意的服務,贏得了良好口碑。

 MC鎂瑞臣立志于在光催化行業深耕細作厚積薄發,用品牌和服務成就每一個應該成功的人,愿成為您科研路上最真誠的伙伴!

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2025-05-14
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